ช่องทางการสมัคร

เครื่องวัดอัตราการไหลมวล หรือที่เรียกว่าเครื่องวัดการไหลเฉื่อย เป็นอุปกรณ์ที่ใช้วัดการไหลของมวลของของไหลผ่านท่อ อัตราการไหลของมวลคือมวลของของไหลผ่านจุดคงที่ต่อหน่วยเวลา
เครื่องวัดอัตราการไหลของมวลไม่ได้วัดปริมาตรต่อหน่วยเวลา (เช่น ลูกบาศก์เมตรต่อวินาที) ที่ไหลผ่านอุปกรณ์ แต่จะวัดมวลต่อหน่วยของเวลา (เช่น กิโลกรัมต่อวินาที) ที่ไหลผ่านอุปกรณ์ การไหลของปริมาตรคือการไหลของมวลหารด้วยความหนาแน่นของของเหลว ถ้าความหนาแน่นคงที่ ความสัมพันธ์ก็ง่าย ความสัมพันธ์ไม่ใช่เรื่องง่ายหากของเหลวมีความหนาแน่นต่างกัน ความหนาแน่นของของเหลวอาจแตกต่างกันไปตามอุณหภูมิ ความดัน หรือองค์ประกอบ ของเหลวยังสามารถเป็นการรวมกันของเฟส เช่น ของเหลวที่มีฟองอากาศกักอยู่ เนื่องจากความเร็วของเสียงขึ้นอยู่กับความเข้มข้นของของเหลวที่ควบคุม ความหนาแน่นที่แท้จริงจึงสามารถกำหนดได้ [1]

ใบสมัคร MFM
1. การตรวจสอบท่ออัจฉริยะ
เหตุผลหลักที่เครื่องวัดอัตราการไหลของมวลความร้อนเป็นที่นิยมในอุตสาหกรรมคือการออกแบบและผลิต ไม่มีชิ้นส่วนที่เคลื่อนไหว แทบไม่มีสิ่งกีดขวางเส้นทางการไหลแบบตรง ไม่ต้องมีการแก้ไขอุณหภูมิหรือแรงดัน และรักษาความแม่นยำในช่วงการไหลที่กว้าง การเดินท่อแบบตรงสามารถลดลงได้โดยใช้องค์ประกอบการปรับสภาพการไหลของแผ่นคู่ และการติดตั้งทำได้ง่ายมากและไม่ทำให้เกิดการบุกรุกท่อ

อย่างไรก็ตาม ในการใช้งานหลายอย่าง คุณสมบัติทางความร้อนของของไหลอาจขึ้นอยู่กับองค์ประกอบของของเหลว ในการใช้งานดังกล่าว การเปลี่ยนแปลงองค์ประกอบของของเหลวระหว่างการทำงานจริงอาจส่งผลต่อการวัดการไหลของความร้อน ดังนั้นจึงเป็นสิ่งสำคัญสำหรับผู้จัดหาเครื่องวัดอัตราการไหลของความร้อนที่จะต้องเข้าใจองค์ประกอบของของเหลว เพื่อให้สามารถใช้ปัจจัยการสอบเทียบที่เหมาะสมเพื่อกำหนดการไหลได้อย่างแม่นยำ ผู้จำหน่ายสามารถให้ข้อมูลการสอบเทียบที่เหมาะสมสำหรับส่วนผสมของก๊าซอื่นๆ ได้ แต่ความถูกต้องแม่นยำของเครื่องวัดอัตราการไหลของความร้อนนั้นขึ้นอยู่กับส่วนผสมของก๊าซจริงที่เหมือนกันกับที่ใช้ในการสอบเทียบ กล่าวอีกนัยหนึ่ง ความแม่นยำของเครื่องวัดอัตราการไหลของความร้อนที่สอบเทียบสำหรับส่วนผสมของก๊าซที่กำหนดจะลดลง หากก๊าซที่ไหลจริงมีองค์ประกอบที่แตกต่างกัน [2]

2. เครื่องซีวีดี
CVD คืออะไร

การสะสมไอ (CVD) เป็นวิธีการสะสมแบบสุญญากาศที่ใช้ในการผลิตวัสดุแข็งคุณภาพสูงและประสิทธิภาพสูง กระบวนการนี้มักใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เพื่อผลิตฟิล์มบาง

ใน CVD ทั่วไป แผ่นเวเฟอร์ (สารตั้งต้น) สัมผัสกับสารตั้งต้นที่ระเหยง่ายหนึ่งชนิดหรือมากกว่าที่ทำปฏิกิริยาและ/หรือสลายตัวบนพื้นผิวของซับสเตรตเพื่อผลิตสิ่งสะสมที่ต้องการ ผลพลอยได้จากการระเหยมักจะถูกผลิตขึ้นเช่นกัน ซึ่งถูกกำจัดออกโดยการไหลของก๊าซผ่านห้องทำปฏิกิริยา

กระบวนการไมโครแฟบริเคชั่นใช้ CVD อย่างกว้างขวางในการฝากวัสดุรูปแบบต่างๆ รวมถึง: ผลึกเดี่ยว คริสตัลไลน์ อสัณฐาน และอีพิแทกซี วัสดุเหล่านี้ได้แก่: ซิลิกอน (คาร์บอนไดออกไซด์ คาร์ไบด์ ไนไตรด์ ออกซีไนไตรด์) คาร์บอน (เส้นใย นาโนไฟเบอร์ ท่อนาโน เพชร และกราฟีน) ฟลูออโรคาร์บอน ฟิลาเมนต์ ทังสเตน ไททาเนียมไนไตรด์ และไดอิเล็กทริกสูงแบบต่างๆ

3. กล่อง/แผงวาล์ว (VMB/VMP)
VMB/VMP . คืออะไร

จากประสบการณ์ของเราในการจัดการก๊าซ เราได้รับความรู้ในการออกแบบและผลิตแผง (กล่องแก๊ส) สำหรับระบบ EPI, MOCVD, ระบบการจัดหาวัสดุและอื่น ๆ
ท่ามกลางความสำเร็จทางธุรกิจของเรา เราสามารถออกแบบและผลิตผลิตภัณฑ์ที่ตรงตามความต้องการของลูกค้า (ราคาและข้อมูลจำเพาะ) เราสามารถจัดการไม่เพียงแต่ก๊าซธรรมดาแต่ยังรวมถึงก๊าซเหลวสำหรับแหวนดุมล้อด้วย เรายังสนับสนุนการสมัครทางกฎหมายต่างๆ