應用領域

什麼是MFC

質量流量控制器（MFC）是用於測量和控制氣體流量的設備。[1]設計和校準質量流量控制器，以在特定的流速範圍內控制特定類型的液體或氣體。可以給MFC設定值是其滿刻度範圍的0％至100％，但通常在滿刻度的10％至90％的範圍內工作，可以達到最佳精度。然後，設備將控制流速到給定的設定值。 MFC可以是模擬的也可以是數字的。數字流量控制器通常能夠控制不止一種類型的流體，而模擬控制器則僅限於對其進行校準的流體。

所有質量流量控制器都有一個入口，一個出口，一個質量流量傳感器和一個比例控制閥。 MFC裝有閉環控制系統，操作員（或外部電路/計算機）向其提供輸入信號，該輸入信號將其與質量流量傳感器的值進行比較，並相應地調節比例閥以達到所需流量。流量以其校準的滿量程流量的百分比指定，並作為電壓信號提供給MFC。

質量流量控制器要求供應的氣體或液體必須在特定的壓力範圍內。低壓會使MFC的液體不足，並導致其無法達到設定點。高壓可能導致流量不穩定。

MFC應用

1.CVD設備

什麼是CVD

半氣相沉積（CVD）是一種真空沉積方法，用於生產高質量，高性能的固體材料。該工藝通常在半導體工業中用於生產薄膜。

在典型的CVD中，晶片（基材）暴露於一種或多種易揮發的前體中，該前體在基材表面上發生反應和/或分解以產生所需的沉積物。通常還會產生揮發性副產物，這些副產物會被流過反應室的氣流除去。

微加工工藝廣泛使用CVD沉積各種形式的材料，包括：單晶，多晶，非晶和外延。這些材料包括：矽（二氧化碳，碳化物，氮化物，氮氧化物），碳（纖維，納米纖維，納米管，金剛石和石墨烯），碳氟化合物，細絲，鎢，氮化鈦和各種高k電介質。

2.閥箱/面板（VMB / VMP）

什麼是VMB / VMP

通過我們在處理氣體方面的經驗，我們獲得了設計和製造EPI系統，MOCVD，材料供應系統等的面板（氣箱）的知識。
在我們的業務成就中，我們能夠設計和製造滿足客戶要求（價格和規格）的產品。我們不僅可以處理普通氣體，還可以處理輪轂環的液化氣供應。我們還支持各種法律申請。