특성

・변위부가 없어 신뢰성과 내구성이 우수하고 설치위치 오차가 없습니다.
・구조가 간단하여(유체의 흐름 방향은 원통형 물체와 와류 감지기만 포함) 압력 손실이 적고 누출이 적습니다. 또한 센서는 채널을 통해 흐르는 유체와 접촉하지 않으므로 다양한 액체 프로세스를 모니터링하는 데 이상적입니다.
・필요에 따라 본체 재질(PPS, PFA) 2종을 선택할 수 있습니다.
・모든 사양(CE 마크 인증)
・테플론은 전체 몸체 부분의 재료이고 O-링을 사용하지 않기 때문에 FM03 시리즈 Karman 와류 유량계는 반도체 제조 공정에서 액체 흐름을 모니터링하는 데 가장 적합한 선택입니다.

소용돌이 유량계 란 무엇입니까?

와류 유량계의 구성[편집하다]

채널 내 유체의 와류 발산으로 인한 압력 변화를 감지하고 압력 변화를 전기 신호 형태의 유량 센서 신호로 변환하도록 작동하는 유량 센서와, 유량 센서 신호를 감지하고 채널에서 유체의 와류 발산으로 인한 압력 변화에 해당하는 출력 신호를 생성합니다.^[2]

작동 원리[편집하다]

매질이 특정 속도로 Braff 본체를 통과할 때 "von Kalman 와류"라고 하는 Braff 본체의 측면 뒤에 교대로 배열된 와류 밴드가 생성됩니다. 와류는 와류 발생기의 양쪽에서 교대로 발생하므로 발생기의 양쪽에서 압력 맥동이 생성되어 감지기에 교번 응력을 유발할 수 있습니다. 검출 프로브 본체에 캡슐화된 압전 소자는 교번 응력의 작용 하에서 와류와 동일한 주파수로 교번 전하 신호를 생성합니다. 이러한 펄스의 주파수는 유량에 비례합니다. 신호가 전치 증폭기에 의해 증폭된 후 처리를 위해 지능형 유량 축적기로 전송됩니다.

일정한 레이놀즈 수(2×10^4~7×10^6) 범위 내에서 와류 방출 주파수, 유체 속도 및 유동 표면을 향하는 와류 발생기의 폭 사이의 관계는 다음 공식으로 나타낼 수 있습니다.^[3]

              f=St×V/d   

여기서 f는 Karman 와류의 방출 주파수, St는 Strouhal 수, V는 속도, d는 삼각형 실린더의 너비입니다.^[4]

와류 유량계의 적용

1. 스마트 파이프라인 모니터링 애플리케이션

산업 응용 분야에서 유량계가 인기 있는 주된 이유는 설계 및 제조 방식 때문입니다. 움직이는 부품이 없고 직선 흐름 경로에 대한 방해가 거의 없고 온도 또는 압력 보정이 필요하지 않으며 넓은 흐름 범위에서 정확도를 유지합니다. 이중 플레이트 흐름 조절 요소를 사용하여 직선 파이프 런을 줄일 수 있으며 설치가 매우 간단하고 파이프 침입을 일으키지 않습니다.

그러나 많은 응용 분야에서 유체의 열적 특성은 유체 구성에 따라 달라질 수 있습니다. 이러한 응용 분야에서 실제 작동 중 유체 조성의 변화는 유량 측정에 영향을 미칠 수 있습니다. 따라서 유량계 공급업체는 유량을 정확하게 결정하기 위해 적절한 보정 계수를 사용할 수 있도록 유체의 구성을 이해하는 것이 중요합니다. 공급업체는 다른 가스 혼합물에 대한 적절한 교정 정보를 제공할 수 있지만 유량계의 정확도는 교정 목적에 사용된 것과 동일한 실제 가스 혼합물에 따라 다릅니다. 즉, 실제로 흐르는 가스의 조성이 다른 경우 주어진 가스 혼합물에 대해 보정된 유량계의 정확도가 감소합니다.^[2]

2. CVD 장비

CVD 장비란?

기상 증착(CVD)은 고품질, 고성능 고체 재료를 생산하는 데 사용되는 진공 증착 방법입니다. 이 공정은 일반적으로 반도체 산업에서 박막을 생산하는 데 사용됩니다.

일반적인 CVD에서 웨이퍼(기판)는 원하는 증착물을 생성하기 위해 기판 표면에서 반응 및/또는 분해하는 하나 이상의 휘발성 전구체에 노출됩니다. 종종 휘발성 부산물도 생성되며, 이는 반응 챔버를 통한 가스 흐름에 의해 제거됩니다.

미세 가공 공정은 단결정, 다결정, 비정질 및 에피택시를 비롯한 다양한 형태의 재료를 증착하기 위해 CVD를 널리 사용합니다. 이러한 재료에는 실리콘(이산화탄소, 탄화물, 질화물, 산질화물), 탄소(섬유, 나노섬유, 나노튜브, 다이아몬드 및 그래핀), 탄화플루오르, 필라멘트, 텅스텐, 질화티타늄 및 다양한 고유전율 유전체가 포함됩니다.

3. 가스분전반/운영반(VMB/VMP)

VMB/VMP란?

가스 취급 경험을 통해 EPI 시스템, MOCVD, 재료 공급 시스템 등을 위한 패널(가스 상자)을 설계 및 제조하는 지식을 얻었습니다.
우리의 사업 성과 중 우리는 고객 요구 사항(가격 및 사양)에 맞는 제품을 설계 및 제조할 수 있습니다. 일반 가스뿐만 아니라 허브 링용 액화 가스 공급도 처리할 수 있습니다. 다양한 법률 지원도 하고 있습니다.