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¿Qué es MFC?

A controlador de flujo másico (CMF) es un dispositivo utilizado para medir y controlar el flujo de gases.^[1] Un controlador de flujo másico está diseñado y calibrado para controlar un tipo específico de líquido o gas en un rango particular de tasas de flujo. Al MFC se le puede dar un punto de ajuste de 0 a 100% de su rango de escala completa, pero generalmente se opera en el rango de 10 a 90%. de escala completa donde se logra la mejor precisión. El dispositivo luego controlará la tasa de flujo al punto de ajuste dado. Los MFC pueden ser cosa análoga o digitalUn controlador de flujo digital generalmente puede controlar más de un tipo de fluido, mientras que un controlador analógico está limitado al fluido para el que fue calibrado.

Todos los controladores de flujo másico tienen un puerto de entrada, un puerto de salida, un sensor de flujo másico y una válvula de control proporcional. El MFC está equipado con un sistema de control de circuito cerrado al que el operador (o un circuito/computadora) externo le da una señal de entrada. que se compara con el valor de la sensor de flujo másico y ajusta la válvula proporcional en consecuencia para lograr el flujo requerido.La tasa de flujo se especifica como un porcentaje de su flujo de escala completa calibrado y se suministra a la MFC como una señal de voltaje.

Los controladores de flujo másico requieren que el suministro de gas o líquido esté dentro de un rango de presión específico. La baja presión privará al MFC de fluido y hará que no alcance su punto de ajuste. La alta presión puede causar tasas de flujo erráticas.

aplicación MFC

1. máquina CVD

¿Qué es el CVD?

deposición de vapor químico (ECV) es un deposición al vacío método utilizado para producir materiales sólidos de alta calidad y alto rendimiento. El proceso se utiliza a menudo en la la industria de semiconductores para producir Peliculas delgadas.

En la ECV típica, la oblea (sustrato) está expuesto a uno o más volátil precursores, cual reaccionar y/o descomponer sobre la superficie del sustrato para producir el depósito deseado. subproductos también se producen, que son eliminados por el flujo de gas a través de la cámara de reacción.

Microfabricación Los procesos utilizan ampliamente CVD para depositar materiales en diversas formas, que incluyen: monocristalino, policristalino, amorfo, y epitaxial.Estos materiales incluyen: silicio de silicio (dióxido, carburo, nitruro, oxinitruro), carbono (fibra, nanofibras, nanotubos, diamante y grafeno), fluorocarbonos, filamentos, tungsteno, nitruro de titanio Y varios dieléctricos de alta k.

2. Caja/panel del colector de válvulas (VMB/VMP)

¿Qué es VMB/VMP?

A través de nuestra experiencia en el manejo de gases, hemos adquirido el conocimiento para diseñar y fabricar paneles de gas (caja de gas) del sistema EPI y MOCVD, sistema de suministro de material, etc.
Logros en nuestro negocio, podemos diseñar y fabricar para cumplir con la solicitud del cliente (precio y especificación). Podemos manejar el suministro de aire del anillo central de gases licuados, no solo gases normales. También apoyamos con varios tipos de aplicaciones legales. .