ciri

・Karena tidak ada bagian yang bergerak, instrumen flowmeter memiliki keandalan dan daya tahan yang sangat baik dan tidak menyebabkan kesalahan posisi pemasangan.
・Strukturnya sederhana (arah aliran fluida hanya mencakup benda silinder dan detektor pusaran), memastikan kehilangan tekanan rendah dan kebocoran rendah. Selain itu, sensor tidak bersentuhan dengan cairan yang mengalir melalui saluran, sehingga ideal untuk memantau berbagai proses cairan.
・Sesuai dengan kebutuhan Anda, Anda dapat memilih dua bahan bodi (PPS dan PFA).
・Semua spesifikasi (bersertifikat tanda CE)
・Karena Teflon adalah bahan untuk seluruh bagian bodi dan tidak ada cincin-O yang digunakan, Pengukur Aliran Karman Vortex Seri FM03 adalah pilihan terbaik untuk memantau aliran cairan selama proses pembuatan semikonduktor.

Apa itu pengukur aliran pusaran

Komposisi flowmeter pusaran[sunting]

Pengukur aliran pusaran, meliputi: sensor aliran yang dapat mendeteksi perubahan tekanan akibat pelepasan pusaran cairan dalam suatu saluran dan mengubah perubahan tekanan tersebut menjadi sinyal sensor aliran dalam bentuk sinyal listrik; dan pemroses sinyal, yang digunakan untuk menerima sinyal sensor aliran dan menghasilkan sinyal keluaran sesuai dengan perubahan tekanan yang disebabkan oleh pelepasan pusaran fluida di saluran.^[2]

prinsip bekerja[sunting]

Ketika medium mengalir melalui badan Bluff dengan kecepatan tertentu, pita pusaran bergantian, yang disebut pusaran von Kalman, akan dihasilkan di belakang sisi badan Bluff. Karena kedua sisi generator pusaran menghasilkan pusaran secara bergantian, pulsasi tekanan akan terjadi di kedua sisi generator, yang akan menyebabkan tegangan bolak-balik pada detektor. Elemen piezoelektrik yang dikemas dalam badan utama probe pendeteksi menghasilkan sinyal muatan bolak-balik dengan frekuensi yang sama dengan pusaran di bawah aksi tegangan bolak-balik. Frekuensi pulsa ini sebanding dengan laju aliran. Setelah sinyal diperkuat oleh preamplifier, sinyal tersebut dikirim ke akumulator aliran cerdas untuk diproses.

Dalam rentang bilangan Reynolds tertentu (2×10^4~7×10^6), hubungan antara frekuensi pelepasan pusaran, kecepatan fluida dan lebar generator pusaran yang menghadap permukaan aliran dapat dinyatakan dengan rumus berikut:^[3]

              f=St×V/d   

Diantaranya, f adalah frekuensi pelepasan pusaran Karman, St adalah bilangan Strouhal, V adalah kecepatan, dan d adalah lebar silinder segitiga.^[4]

Penerapan Pengukur Aliran Vortex

1. Aplikasi pemantauan pipa pintar

Alasan utama mengapa flow meter populer dalam aplikasi industri adalah karena cara mereka dirancang dan diproduksi. Mereka tidak memiliki bagian yang bergerak, hampir tidak ada halangan pada jalur aliran lurus, tidak memerlukan koreksi suhu atau tekanan, dan menjaga akurasi pada rentang aliran yang luas. Dengan menggunakan elemen pengatur aliran pelat ganda, bagian pipa lurus dapat dikurangi, pemasangan sangat sederhana, dan tidak ada intrusi pipa

Namun, dalam banyak aplikasi, sifat termal suatu fluida mungkin bergantung pada komposisi fluida. Dalam aplikasi seperti itu, perubahan komposisi fluida selama pengoperasian sebenarnya dapat mempengaruhi pengukuran aliran. Oleh karena itu, penting bagi pemasok flow meter untuk memahami komposisi fluida sehingga laju aliran dapat ditentukan secara akurat menggunakan faktor kalibrasi yang tepat. Vendor dapat memberikan informasi kalibrasi yang sesuai untuk campuran gas lainnya, namun keakuratan pengukur aliran bergantung pada campuran gas sebenarnya yang sama dengan yang digunakan untuk tujuan kalibrasi. Dengan kata lain, keakuratan flow meter yang dikalibrasi untuk campuran gas tertentu akan berkurang jika gas yang mengalir sebenarnya memiliki komposisi yang berbeda.^[2]

2. Peralatan CVD

Apa itu peralatan CVD

Deposisi fase uap (CVD) adalah metode deposisi vakum yang digunakan untuk menghasilkan material padat berkualitas tinggi dan berkinerja tinggi. Proses ini biasa digunakan dalam industri semikonduktor untuk menghasilkan film tipis

Dalam CVD tipikal, wafer (substrat) terkena satu atau lebih prekursor yang mudah menguap, yang bereaksi dan/atau terurai pada permukaan substrat untuk menghasilkan endapan yang diinginkan. Produk sampingan yang mudah menguap juga biasanya dihasilkan yang dihilangkan oleh aliran gas melalui ruang reaksi

Proses pemesinan mikro secara ekstensif menggunakan CVD untuk menyimpan berbagai bentuk material, termasuk: monokristalin, polikristalin, amorf, dan epitaksial. Bahan-bahan tersebut meliputi: silikon (karbon dioksida, karbida, nitrida, nitrogen oksida), karbon (serat, serat nano, tabung nano, berlian dan graphene), fluorokarbon, filamen, tungsten, titanium nitrida dan berbagai dielektrik High-k

3. Panel Distribusi Gas/Panel Operasi (VMB/VMP)

Apa itu VMB/VMP

Melalui pengalaman kami dalam menangani gas, kami memperoleh pengetahuan untuk merancang dan memproduksi panel (kotak gas) untuk sistem EPI, MOCVD, sistem pasokan material, dll.
Di antara pencapaian bisnis kami, kami mampu merancang dan memproduksi produk yang memenuhi kebutuhan pelanggan (harga dan spesifikasi). Kami tidak hanya dapat menangani gas biasa, namun kami juga dapat menangani pasokan gas cair untuk cincin hub. Kami juga mendukung berbagai aplikasi hukum.